弗萊貝格MDPpro晶錠壽命測量裝置單晶 、多晶晶圓和晶錠 壽 命測量裝置用于常規質量控制和復雜的材料研發硅| 化合物半導體| 氧化物| 寬帶隙材料| 鈣鈦礦| 外延層[ CdTe | InP | ZnS | SiC | GaAs | GaN | Ge ]
更(geng)新(xin)時間：2023-06-15
弗萊貝格MDPpro晶錠壽命測量裝置
單晶 、多晶晶圓和晶錠 壽 命測量裝置
用于常規質量控制和復雜的材料研發
硅| 化合物半導體| 氧化物| 寬帶隙材料| 鈣鈦礦| 外延層
[ CdTe | InP | ZnS | SiC | GaAs | GaN | Ge ]
弗萊貝格MDPpro晶錠壽命測量裝置
常規壽命測量、質量控制與檢查先進的材料研發
應用案列
+ 鐵濃度測定
+ 陷阱濃度測定
+ 硼氧含量測定
+ 取決于注入效應的的檢測等
大通 量: >240 bricks/day或>720 wafers/day
測 試 速 度: <4 minutes，156×156×400 mm 標準晶錠
壽命測 試范圍: 20 ns到幾十ms
產量提 升: 1mm的切割標準156×156×400mm標準晶錠
質 量 控 制: 專為單晶或多晶硅等工藝和材料的質量監控而設計
污染判 斷: 產生于坩堝和生產設備中的金屬污染 (Fe)
可靠性: 模塊化，具有更高的可靠性和正常運行時間 > 99%
重復性: > 99.5%
電(dian)阻(zu)(zu)率(lv) ：電(dian)阻(zu)(zu)率(lv)面掃功能，無需(xu)頻繁校準
+ 無接觸且無破壞的壽命成像（μPCD / MDP（QQSS )），光電導率，電阻率和p / n檢查，符合半標準SEMI PV9-1110
+ 晶圓(yuan)切割，熔爐監控，材料(liao)優化等
先進的材料研發應用案列
+ 鐵濃度測定
+ 陷阱濃度測定
+ 硼氧含量測定
+ 取決(jue)于注(zhu)入效應的(de)的(de)檢測等(deng)
MDPStudio
具有：
› 導出和導入功能
› 用戶結構的操作系統
› 所有已執行測量的總覽界面
› 樣品參數輸入
› 單點測量，例如注入依賴的測試
› 面掃功能
› 菜單選項
› 分析功能包
› 線掃及單(dan)點瞬(shun)態(tai)可視化(hua)
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